张瑜

发布时间:2024-06-06作者:设置

张瑜,博士,讲师,硕士生导师

电话:18538070671

邮箱:zhangyudlut@foxmail.com


教育背景

2019.09-2024.03大连理工大学,机械制造及其自动化专业,工学博士

2012.09-2015.07大连理工大学,机械制造及其自动化专业,工学硕士

2008.09-2012.07河南科技大学,机械设计制造及其自动化专业,本科


工作履历

2024.03—至今 郑州轻工业大学,机制系

2015.07-2019.07郑州磨料磨具磨削研究所


教授课程

《机械制造技术基础》、《创新创业基础》等


研究方向

硬脆材料超精密加工


研究概况

主要研究方向为硬脆晶片高精度低损伤加工理论与工艺、半导体制造技术,对单晶硅、碳化硅等硬脆材料的去除机理、脆-塑性转变过程、磨削表面/亚表面质量的影响规律和控制方法开展了大量的基础研究,在硬脆晶体材料磨削工具的研制、硬脆材料磨削表面/亚表面质量检测与分析方面积累了大量的经验。


近年来主要承担项目

  1. 面向高表面质量的平顶光束激光加工金刚石技术研究,河南省科技攻关,2025-2027,10万,主持。

  2. 碳化硅低损伤磨削的纤维弹性砂轮磨削工艺基础,河南省自然科学基金,2025-2027,1万,主持


近年来主要荣誉

无


教材和著作

无


近年来代表性专利

  1. 一种用于加工硬脆材料的抛光轮及其制备方法,发明专利,2024:

  2. 一种激光辅助抛光CVD金刚石的装置,发明专利,2025

  3. 基于检测的激光修型装置及方法,发明专利,2025


近年来代表性论文

  1. Zhang Yu, Kang Renke, et al. Mechanical effect of abrasives on silicon surface in chemo-mechanical grinding [J]. International Journal of Mechanical Sciences, 2023.

  2. Zhang Yu, Kang Renke, et al. A new model of grit cutting depth in wafer rotational grinding considering the effect of the grinding wheel, workpiece characteristics, and grinding parameters[J]. Precision Engineering, 2021.

  3. Kang Renke,Zhang Yu, et al. High surface integrity fabrication of silicon wafers using a newly developed nonwoven structured grind-polishing wheel, Journal of manufacturing processes, 2022

  4. 张瑜,康仁科,等.湿式机械化学磨削单晶硅的软磨料砂轮及其磨削性能[J].机械工程学报, 2022.

  5. Zhang Yu, Gao Shang, et al. Grinding Performance of Diamond Grinding Tools for Sapphire Crystal[J]. Advanced Materials Research, 2014.

  6. Gao Shang, Li Honggang, Kang Renke,Zhang Yu, et al. Effect of strain rate on the deformation characteristic of AlN ceramics under scratching[J]. Micromachines, 2021.

  7. Wang Ziguang, Yan feng,Zhang Yu, et al. The material deformation modes of monocrystalline gallium antimonide (GaSb) under nano-scratching[J]. Frontiers in materials, 2023.

  8. Gao Shang, Huang Jinxing,Zhang Yu, et al. The grinding performance of a newly developed soft abrasive grinding wheel for silicon wafers during wet grinding process. The 23rd International Symposium on Advances in Abrasive Technology, Hokkaido, 2021, Japan.

  9. Wu Zihe, Cheng Jirui,Zhang Yu, et al. Modeling on the flatness of silicon wafers ground by the grind-polishing wheel [C]. 10th International Conference on Advanced Manufacturing Technology Materials Engineering, 2023, Zhu Hai, China.


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